반도체 공정에서 발생하는 화학 물질 및 산화막 제거에 대한 세정 솔루션을 제공 합니다

자동화 시스템이 적용 된 설비로 제품 투입 시 세정 후 완전 건조 상태로 배출 됩니다

화학약품 세정, 초순수 세정 공간을 완전히 분리하여 용액이 혼합 되는 상황을 차단합니다